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多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清掃裝（zhuāng）置（zhì）
多晶矽還原爐體（tǐ）及鍾罩幹式清掃裝置使用時利用上（shàng）下移動和旋轉機構帶動高壓（yā）氣體噴吹以及特殊旋轉刷組（zǔ）合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達到清洗的目的（de）。通（tōng）過清洗旋轉調（diào）速機構（gòu）可（kě）滿足各工況的要求。清洗的同（tóng）時采用特殊除塵淨化器一次性進行除塵淨化。
多晶矽還原爐體及鍾（zhōng）罩幹（gàn）式清（qīng）掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用範圍
矽烷法多（duō）晶矽生產工藝。
用於還原車間反應釜中矽汙染物附著力不大的工況條件下無汙染幹式清洗。
■工作原理
清洗時利用上（shàng）下移動和旋轉機構（gòu）帶動高壓（yā）氣體噴吹以及特殊（shū）旋轉刷組合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和（hé）接觸式清掃達到清洗的目（mù）的。通過清洗旋轉調速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采（cǎi）用（yòng）特殊除塵淨化器一次性進行除（chú）塵淨化。
■工藝流程
反（fǎn）應釜（fǔ）吊（diào）裝至清洗台上—定位—連接、啟動淨化器（qì）—啟動旋轉、上下移（yí）動機構—高壓氣體沿壁噴吹—旋轉（zhuǎn）刷至上而下接觸移動清掃—淨化（huà）氣體置換—反應釜吊起—檢查。
■設備組成及配置
主要由清洗平台、氣（qì）體噴吹（chuī）裝置（zhì）、吸塵輸送管道、控製閥門（mén）、動（dòng）力機構、清洗（xǐ）機構、各管道快（kuài）速接頭、除塵淨化器、電氣控（kòng）製係統等組成。
主要部件（jiàn）采用進口零部（bù）件，確保運行可靠穩定、使用周期長。操作維修簡單。
■設備特點
1)裝置為移動（dòng）單元（yuán）式結（jié）構。
2)淨化後的空氣可達到10萬級的淨化精度（dù）可完全在室內排放。
3)采用全封閉幹式（shì）的清洗方式確保對（duì）環境不出（chū）現二次汙染。
4)電氣設（shè）計按隔爆的各項要求執行、 設備設有靜電導出裝置。
5)控製方式可為全自動或手（shǒu）動控製。
6)運行總功率小，噪聲低。
