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電子級多晶(jīng)矽還原爐鍾罩自動清洗係統成功問世(shì)
時間:2017-02-27 來源: 北京TXVLOG糖心短视频网站潔清潔設備有限公司
多晶矽(guī)是用工業矽通過化學、物理途徑提純製得(dé),多晶矽(guī)主要用於生產單晶矽和衛星太陽能電池。單晶矽即矽半導體是多晶矽的衍生產品,是製(zhì)造繼承(chéng)電路(lù)和電子元件的優質材料,被廣泛應用於電子工業中。
還(hái)原爐沉積多晶矽是間歇操作,一個運行周期內,矽棒不斷長大,一個運行周期結束後打(dǎ)開鍾罩收(shōu)割矽棒。但在運行期內,基盤(pán)及(jí)鍾罩表麵均(jun1)會產生一層(céng)土黃(huáng)色粉末,其主要成分是無定形矽。在收割矽棒後,需要進行基(jī)盤和鍾罩(zhào)的清理,再裝矽芯進行下一個周(zhōu)期的化學氣相沉積。

還原(yuán)爐鍾罩汙染物易造(zào)成內表麵熱量反射減少,使生產能耗(hào)增加;電極周圍汙染物降低了點擊的絕緣而導致運行過程中接地故障(zhàng)、倒棒等生產事故。而用於(yú)電子行業的(de)多晶矽對(duì)產品質量(liàng)純淨度的控製要求更高(gāo),
隨(suí)著我(wǒ)國半導體工業發展(zhǎn),對多晶矽純度要求越(yuè)來越高,還原爐(lú)沉積環境的潔淨度就顯得特別關鍵,任何顆粒性雜質、油脂等物質餘留在爐內,都會對產品質量(liàng)造成影響。那麽,如何清理能方便快捷,同時效果更佳?
多(duō)晶矽還原爐清(qīng)洗係(xì)統始於2009年,國內第一(yī)家研發設計製造並獲得實用新型專利是北京德(dé)高潔清潔設備(bèi)有限公司,該(gāi)公(gōng)司多晶矽還原爐鍾罩(zhào)清(qīng)洗係統覆蓋了(le)國(guó)內多家多晶矽生產企業。早期有高壓清洗、化學溶劑低壓清洗、機械拋光等,但大多釆用堿液(yè)中壓(yā)清洗,這些清洗方式不僅不能將鍾罩清(qīng)洗幹淨,還會(huì)損傷表(biǎo)麵(miàn)鍍(dù)銀的還原爐鍾罩(zhào),為攻克這一難題,一款全新的用於電子級的多(duō)晶矽還原爐鍾罩清洗係(xì)統應運而生。
電子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗係統特點:
1、多晶矽還原爐鍾罩清(qīng)洗係統以水為動力,以水力自驅(qū)動三維洗罐器為噴頭,形成360° 3D形式(shì)的網狀噴射來完成爐(lú)筒內部表麵的水力掃射。
2、采用(yòng)可以旋轉和升降的清洗吹幹(gàn)執行機構,根據還原爐每個視孔鏡相對原(yuán)點的相對位置(zhì)進行準確定位。可自(zì)動(dòng)切換不同清洗液及吹幹,通過控(kòng)製係統可對(duì)清洗、吹幹時間等(děng)進行調整。清洗時隻需一鍵操作即可,操作簡單方便。
3、根據還原爐底部法蘭的結構特設計升級後的(de)清洗工作台(tái),不僅可以(yǐ)滿足對內壁和視孔鏡的清洗,同時也滿足了底部法(fǎ)蘭的清洗。可實現對法蘭內邊緣的清洗(xǐ),保證整個法蘭底部都被清洗液覆蓋,並清洗、吹幹(gàn)。
4、在整個還原爐的(de)清洗過程中,清洗、幹燥中筒內形成微負壓狀態,防止(zhǐ)清洗外溢,同時將底座與筒體下法蘭(lán)處的汙染物等一並吹掃,通過排汙管排出,從而保證了整個過程不會對潔淨區造(zào)成汙染。

經過(guò)實際應用,多晶矽還原爐清洗係(xì)統整套係統可實現全(quán)自(zì)動化清洗操作,在一個工作平台上,一次吊裝可依次(cì)實現自動清洗烘幹全部功能,完全實現無死角清洗,同時具有完善的聯鎖和保護功能。
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- 標簽:
- 多晶(jīng)矽
- 還原(yuán)爐鍾罩
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