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首頁 > 技術文章

多晶矽生產設備清洗的意義

時（shí）間：2018-05-28     來源： 北京TXVLOG糖心短视频网站潔清潔（jié）設備有限公司

多晶矽按不（bú）同的（de）用途可分為太陽能級多晶矽和電子級多晶矽兩類。太陽（yáng）能（néng）級多晶矽的純度一般在5～7N，主要雜質為Fe、Cr、Ni、Cu、Zn 等，金屬雜質總（zǒng）含量≤0.2(太（tài）陽能三級品要求)。電子級多晶（jīng）矽一般含Si＞99.9999%以上，超高（gāo）純（chún）達到99.9999999%～99.999999999%，即9～11N，其導電性為（wéi）10- 4～1010Ω·cm，碳濃度＜2×1016at·cm- 3。
 
油脂、水分、氯離子（zǐ）殘留、金屬氧化（huà）物、氯化物、灰塵及其他雜質，對多晶（jīng）矽的純（chún）度影響極大。在多晶矽（guī）設備製造、安裝和多晶矽（guī）生產過程（chéng）中清洗是（shì）十分重要的（de）部分，要按多晶矽生產工藝，對不同潔淨度要求、不同材質的（de）設備采用不（bú）同（tóng）的清洗方（fāng）法。'
 
多晶矽（guī）
 
多晶矽設備（bèi）的清洗的不同階段：
 
1、設（shè）備製造階段（duàn）的清洗（xǐ）
 
金屬設備及管（guǎn）道、零件需要在除漆前將表麵的氧化（huà）皮和鐵鏽除掉，設備內部的油脂、軋（zhá）製鱗片、鏽皮等也需要進行清洗。
 
2、多晶矽設備安（ān）裝階段的（de）清潔
 
由於工藝管道輸送的介質特性及產品純度要求，對管道的焊接質量及內部清潔、吹掃試壓均有較（jiào）高要求，對設備進場（chǎng）驗收、檢驗及安裝、內部處理也有較高要求，因此（cǐ）設備製造結束後的清洗處理至關重要。在裝置進行試生（shēng）產前期，係統注入四（sì）氯（lǜ）化矽進行循環清洗約2～3個月，時（shí）間的（de）長短取決於設備前期（qī）清洗情況。
 
3、多晶矽設備生產期（qī）間的清洗
 
還原爐和氫化爐是改良西門子法生產多晶矽的核心設備，其運行（háng）好壞直接（jiē）影（yǐng）響多晶矽質量及生產成本。多晶矽生產對還（hái）原爐的沉積環境的潔淨度要求特別關鍵，任何顆粒（lì）性雜質、油脂等物質餘留（liú）在爐內（nèi），都會對產品質量造（zào）成影響。北京TXVLOG糖心短视频网站潔清潔設備有限公（gōng）司經過研發（fā）設計並製造出了多晶矽自動化還原爐鍾罩清洗係統，可以完（wán）全（quán）將（jiāng）多晶矽還原（yuán）爐鍾罩清（qīng）洗幹（gàn）淨，滿足生產（chǎn）需求。
 
TXVLOG糖心短视频网站潔電子級（jí）多晶矽還原爐（lú）鍾罩清洗係統包括低壓熱（rè）水清洗動（dòng）力裝置（zhì）、三維洗罐器、旋轉和升降執行機構、清洗工作台、萬級淨化（huà）幹燥係統、循環過濾係統、控製（zhì）裝置、微負壓係統、清洗工作台、電氣控製係統等，係（xì）統實（shí）現了鍾罩的全自動清洗和烘幹操作。
 
TXVLOG糖心短视频网站潔多晶（jīng）矽還原爐鍾罩清洗係統
 
電（diàn）子級多晶矽還原爐鍾罩自動清洗（xǐ）係（xì）統（tǒng）特點：以水力自（zì）驅動三維洗罐器為噴頭，形成360° 3D形式的網狀噴射來完成爐筒（tǒng）內（nèi）部表麵的水力掃射。配以旋（xuán）轉和升降的清洗吹幹執行機構，準確定位。操作簡單方便，係統控（kòng）製，清洗、吹幹自（zì）行調整。不僅可以滿足對內壁和視孔鏡的（de）清洗，同時也滿足了底部法蘭的清洗。
 
在（zài）整個還原爐（lú）的清（qīng）洗過程中，清洗、幹燥（zào）中筒內形成微負壓狀態，防止清（qīng）洗外溢，同時將底（dǐ）座與筒體下法蘭處的汙染物等一並吹掃，通（tōng）過排汙管（guǎn）排出，從而保證了整個過程不會對（duì）潔淨區造成（chéng）汙（wū）染。
 
生產多晶矽的工藝複雜，設備清洗是可以降低能耗保證多晶矽產品質量的。多晶矽生產企業對設備須從選型、選材、清洗等方麵進行合理、科（kē）學的管理，應用現代技術，進行全程清洗，以充分發揮設備功效，為安全、高效生產創造（zào）條件。
  • 標簽：
  • 多晶矽
  • 還原爐
  • 氫化爐
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