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多晶矽還原爐體及鍾罩（zhào）幹式清掃裝（zhuāng）置
時間：2011-01-11 來源：
多晶矽還原爐體及鍾罩幹式清掃裝置 The dry clean system for Bell jar and the reactor base
■適用範圍
矽烷法多晶矽生產工藝（yì）。
用於還原車間反應釜中矽汙染（rǎn）物附（fù）著力不大的工況條件下無汙（wū）染幹式清洗。
■工作原理
清（qīng）洗時利用上下移動和旋轉機（jī）構帶動（dòng）高壓氣體噴吹以及特殊旋轉刷組合機構近距離對反應釜表麵進行噴吹和接觸式清掃達（dá）到清洗的目的。通過清洗旋（xuán）轉調（diào）速機構可滿足各工況的要求。清洗的同時采用特殊除塵（chén）淨化器一次性進行除塵淨化。
■工藝流程
反應釜吊裝至清洗台上—定（dìng）位—連接、啟動淨化器—啟（qǐ）動旋轉（zhuǎn）、上下移動機構—高壓氣體沿壁噴吹—旋轉刷至上而（ér）下接（jiē）觸（chù）移（yí）動清掃—淨化氣體置換—反應釜吊起—檢查。
■設備組成及配置（zhì）
主要由清洗平台、氣體噴吹裝置、吸塵輸送（sòng）管道、控製閥門、動力機構（gòu）、清洗機（jī）構、各管道快速接頭、除塵淨化器、電氣控製係統等組成。
主要部件（jiàn）采用進口零部件，確保運行可靠穩定、使用周期長（zhǎng）。操作維修簡（jiǎn）單。
■設備特（tè）點
1)裝置為（wéi）移動單元式結構。
2)淨化後的空氣可達到10萬（wàn）級（jí）的淨化精度可完全在室內排放。
3)采用全封閉幹式的清洗方式確保（bǎo）對環境不出（chū）現二（èr）次（cì）汙染。
4)電氣設計按隔爆的（de）各項要求執行、 設備設有靜電導出裝置。
5)控製（zhì）方式可為全自動或手動控製。
6)運行總功率（lǜ）小，噪聲低。
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