多晶矽還原爐內主要汙染物(wù)及清洗工藝
時間:2016-10-12 15:20:09作者:LeeZhou來源:TXVLOG糖心短视频网站潔清潔設備
從(cóng)2010年至今,光伏產業呈現出了強勢(shì)的複蘇(sū)態勢,光(guāng)伏市場(chǎng)需求旺盛。高純多晶矽是電子工業和太陽能光伏產業(yè)的基礎原料也是主(zhǔ)要原料,在整個生產過程中,對產品質(zhì)量的控製要求很高。目前(qián),生產多晶矽主要(yào)采用改良西門子法,對還原爐的沉積環境的潔淨度要(yào)求特別關(guān)鍵(jiàn),任何顆粒性雜質、油脂等(děng)物質餘留在爐內,都會對產品質量造成影(yǐng)響。

一、多晶矽還原爐內主要汙染物
根據多晶矽生產原理及實際生產情況分(fèn)析,還原爐基盤及鍾罩表麵(miàn)主(zhǔ)要汙染物為無定形矽粉(fěn),其次(cì)為多晶矽(guī)顆粒物、氯矽烷水解物(wù)及部分粉塵雜質。
1、無定形矽
還原爐在一個周期運行後,基盤及鍾罩表(biǎo)麵均會產生一層土(tǔ)黃色粉末,主要成分為無定形矽粉。基盤冷卻水溫度偏高(gāo),在還原爐基盤尾氣出口也會產生無定形矽。這些(xiē)無定形矽易形成一層膜附在基盤和鍾罩內表(biǎo)麵(miàn),甚至(zhì)在電極和石英環表麵。
2、氯矽烷水解物
多晶矽打開鍾罩前要進(jìn)行嚴(yán)格的氮氣置換,但因還原爐結構複雜,在(zài)進料口、尾氣管、窺視鏡等地方易(yì)形(xíng)成置換死角,置換後爐內(nèi)仍會預留部分氯矽烷氣體。當爐(lú)筒提起後,氯矽烷殘留氣體與空氣接觸,會(huì)在基盤(pán)及爐筒表麵形成水解物。這些水解物一般附著在進料管口及(jí)尾氣管口,其中矽酸鹽物(wù)質為(wéi)白色膠(jiāo)狀沉澱,二氧化矽為(wéi)白色(sè)粉末狀固體,氯化氫遇潮形成鹽酸殘留在基盤表麵。
3、多晶矽顆粒物
還原爐停爐過(guò)程中,因停爐溫度控製不均,易造成(chéng)矽棒破裂,產生多(duō)晶矽碎屑;收割矽棒過程中也會有部分碎屑遺留;如果遇到倒棒,碎屑遺留會更多。
4、其他(tā)雜物
在收割矽棒(bàng)中,會帶入少量的粉塵、油脂等汙染物。油分子對多晶矽的危害十分嚴(yán)重可能(néng)造成多晶矽反應速度減慢,產量(liàng)降(jiàng)低,甚至矽反應停止。
二、多晶矽還原爐清洗方法(fǎ)

現今各生產廠家在開發新技(jì)術、進(jìn)行技術改造的同時,通過對設備的清洗來(lái)降低能耗(hào)和保證多晶矽的產品質量。還原爐沉積多晶矽是(shì)間歇(xiē)操作,一個運(yùn)行周期結束後需要打開(kāi)鍾罩收割(gē)矽棒,然後進行基盤清理,再裝矽芯進行下一個周期的化學氣相沉積。因此,想提高設備運轉率、降低能耗,選擇方便、快捷、處理效果(guǒ)好的清理工(gōng)藝尤為關鍵。
TXVLOG糖心短视频网站潔多晶矽還原(yuán)爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機為主機,以高壓水射流為動力的自(zì)驅動三維(wéi)旋轉噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表麵(miàn),從(cóng)而完成鍾(zhōng)罩內部表麵的水力掃射,並采用專用(yòng)清洗劑等為主要清洗液,先用純水(去離(lí)子(zǐ)水或叫脫鹽(yán)水)漂洗,之後再采用高(gāo)純水衝洗,最終完成清洗過程。
TXVLOG糖心短视频网站潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統核心部件(jiàn)高壓泵采用進口耐酸堿、耐高溫、全不鏽鋼的加壓泵,並利用多晶矽生產廠(chǎng)家的蒸汽餘熱將清洗(xǐ)介質加(jiā)熱,從而改變原電(diàn)加熱工藝(yì)。我公司自(zì)行研發設計的自驅動旋轉升(shēng)降噴射機構可適應各規格的還原爐體。

一、多晶矽還原爐內主要汙染物
根據多晶矽生產原理及實際生產情況分(fèn)析,還原爐基盤及鍾罩表麵(miàn)主(zhǔ)要汙染物為無定形矽粉(fěn),其次(cì)為多晶矽(guī)顆粒物、氯矽烷水解物(wù)及部分粉塵雜質。
1、無定形矽
還原爐在一個周期運行後,基盤及鍾罩表(biǎo)麵均會產生一層土(tǔ)黃色粉末,主要成分為無定形矽粉。基盤冷卻水溫度偏高(gāo),在還原爐基盤尾氣出口也會產生無定形矽。這些(xiē)無定形矽易形成一層膜附在基盤和鍾罩內表(biǎo)麵(miàn),甚至(zhì)在電極和石英環表麵。
2、氯矽烷水解物
多晶矽打開鍾罩前要進(jìn)行嚴(yán)格的氮氣置換,但因還原爐結構複雜,在(zài)進料口、尾氣管、窺視鏡等地方易(yì)形(xíng)成置換死角,置換後爐內(nèi)仍會預留部分氯矽烷氣體。當爐(lú)筒提起後,氯矽烷殘留氣體與空氣接觸,會(huì)在基盤(pán)及爐筒表麵形成水解物。這些水解物一般附著在進料管口及(jí)尾氣管口,其中矽酸鹽物(wù)質為(wéi)白色膠(jiāo)狀沉澱,二氧化矽為(wéi)白色(sè)粉末狀固體,氯化氫遇潮形成鹽酸殘留在基盤表麵。
3、多晶矽顆粒物
還原爐停爐過(guò)程中,因停爐溫度控製不均,易造成(chéng)矽棒破裂,產生多(duō)晶矽碎屑;收割矽棒過程中也會有部分碎屑遺留;如果遇到倒棒,碎屑遺留會更多。
4、其他(tā)雜物
在收割矽棒(bàng)中,會帶入少量的粉塵、油脂等汙染物。油分子對多晶矽的危害十分嚴(yán)重可能(néng)造成多晶矽反應速度減慢,產量(liàng)降(jiàng)低,甚至矽反應停止。
二、多晶矽還原爐清洗方法(fǎ)

現今各生產廠家在開發新技(jì)術、進(jìn)行技術改造的同時,通過對設備的清洗來(lái)降低能耗(hào)和保證多晶矽的產品質量。還原爐沉積多晶矽是(shì)間歇(xiē)操作,一個運(yùn)行周期結束後需要打開(kāi)鍾罩收割(gē)矽棒,然後進行基盤清理,再裝矽芯進行下一個周期的化學氣相沉積。因此,想提高設備運轉率、降低能耗,選擇方便、快捷、處理效果(guǒ)好的清理工(gōng)藝尤為關鍵。
TXVLOG糖心短视频网站潔多晶矽還原(yuán)爐鍾罩清洗係統是以高壓清洗機為主機,以高壓水射流為動力的自(zì)驅動三維(wéi)旋轉噴頭形成360°的網狀高壓水柱噴射表麵(miàn),從(cóng)而完成鍾(zhōng)罩內部表麵的水力掃射,並采用專用(yòng)清洗劑等為主要清洗液,先用純水(去離(lí)子(zǐ)水或叫脫鹽(yán)水)漂洗,之後再采用高(gāo)純水衝洗,最終完成清洗過程。
TXVLOG糖心短视频网站潔多晶矽還原爐鍾罩清洗係統核心部件(jiàn)高壓泵采用進口耐酸堿、耐高溫、全不鏽鋼的加壓泵,並利用多晶矽生產廠(chǎng)家的蒸汽餘熱將清洗(xǐ)介質加(jiā)熱,從而改變原電(diàn)加熱工藝(yì)。我公司自(zì)行研發設計的自驅動旋轉升(shēng)降噴射機構可適應各規格的還原爐體。
熱門搜(sōu)索: